Composition for forming lower-layer film and method of forming dual-damascene structure

WO2007148763 Art A1 27. Dezember 2007

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007148763
Aktenzeichen: EP07767363
Anmeldetag: 21. Juni 2007
Veröffentlichung: 27. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11H01L21/027H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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