Lithographic apparatus, device manufacturing method and radiation collector

WO2007148968 Art A2 27. Dezember 2007

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Box, Wilhelmus Josephus, Voorma, Harm-Jan, Frijns, Olav Waldemar Vladimir, Limpens, Maurice Pierre Marie Arthur 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007148968
Aktenzeichen: EP07747518
Anmeldetag: 19. Juni 2007
Veröffentlichung: 27. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Box, Wilhelmus Josephus
Voorma, Harm-Jan
Frijns, Olav Waldemar Vladimir
Limpens, Maurice Pierre Marie Arthur
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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