A dry non-plasma treatment system and method of using

WO2007149627 Art A2 27. Dezember 2007

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007149627
Aktenzeichen: EP07761330
Anmeldetag: 26. April 2007
Veröffentlichung: 27. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L39/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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