Structure and method for forming a shielded gate trench fet with the shield and gate electrodes being connected together

WO2007149666 Art A2 27. Dezember 2007

Anmelder: Fairchild Semiconductor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007149666
Aktenzeichen: EP07797608
Anmeldetag: 21. Mai 2007
Veröffentlichung: 27. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/94

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fairchild Semiconductor Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Fairchild Semiconductor

Fairchild Semiconductor war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der 2016 von ON Semiconductor übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und Schaltungstechnik sowie Leistungselektronik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2017.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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