Methods to improve the in-film defectivity of pecvd amorphous carbon films

WO2007149761 Art A2 27. Dezember 2007

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2007149761
Aktenzeichen: EP07798542
Anmeldetag: 14. Juni 2007
Veröffentlichung: 27. Dezember 2007
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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