Method for producing metal film, foundation composition, metal film and use thereof
WO2008001611
Art A1
3. Januar 2008
Anmelder: Omron Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008001611
- Aktenzeichen
- EP07745163
- Anmeldetag
- 13. Juni 2007
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C18/18C23C18/20H05K1/03H05K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Omron Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Omron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Omron entwickelt Automatisierungstechnik, Steuerungen, Sensoren und Robotik für die Industrie sowie elektronische Bauteile und medizintechnische Geräte.
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