Microwave plasma processing device

WO2008001809 Art A1 3. Januar 2008

Anmelder: The University of Tokyo, Chubu Electric Power Co., Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008001809
Aktenzeichen: EP07767708
Anmeldetag: 27. Juni 2007
Veröffentlichung: 3. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/511H01L21/205H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: The University of Tokyo
Chubu Electric Power Co., Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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