Process for producing high-purity hexafluoropropylene and cleaning gas

WO2008001844 Art A1 3. Januar 2008

Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008001844
Aktenzeichen: EP07767789
Anmeldetag: 28. Juni 2007
Veröffentlichung: 3. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C07C17/38C07C17/383C07C17/389C07C21/18C23C16/44H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHOWA DENKO K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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