Method for straining a semiconductor device

WO2008002710 Art A1 3. Januar 2008

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008002710
Aktenzeichen: EP07797206
Anmeldetag: 6. April 2007
Veröffentlichung: 3. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/26H01L21/335H01L21/336

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Freescale Semiconductor, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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