Gas Supply Unit

WO2008004501 Art A1 10. Januar 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008004501
Aktenzeichen: EP07767891
Anmeldetag: 29. Juni 2007
Veröffentlichung: 10. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: F16K27/00B05C11/08B05C13/02H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von