Plasma abnormal discharge diagnosis method, plasma abnormal discharge diagnosis system, and computer program
WO2008004528
Art A1
10. Januar 2008
Anmelder: Ritsumeikan University, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008004528
- Aktenzeichen
- EP07768029
- Anmeldetag
- 2. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 10. Januar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065H05H1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Ritsumeikan University
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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