Spacer fabric and method of fabricating the same

WO2008004733 Art A1 10. Januar 2008

Anmelder: Kolon Glotech Inc., Massachusetts Institute of Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008004733
Aktenzeichen: EP06835528
Anmeldetag: 28. Dezember 2006
Veröffentlichung: 10. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: D04B1/00D02G3/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Kolon Glotech Inc.
Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

5.635 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Textiltechnik

Vertreten von