Oxide Phosphor Epitaxial Thin Film

WO2008007559 Art A1 17. Januar 2008

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008007559
Aktenzeichen: EP07767757
Anmeldetag: 28. Juni 2007
Veröffentlichung: 17. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/22C09K11/00C09K11/08C09K11/66C09K11/67C09K11/78C23C14/08C23C14/28H05B33/10H05B33/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von