Photosensitive, aqueous alkaline solution-soluble polyimide resin and photosensitive resin composition containing the same
WO2008007635
Art A1
17. Januar 2008
Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008007635
- Aktenzeichen
- EP07768370
- Anmeldetag
- 9. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G81/00C08F290/00G03F7/023G03F7/027G03F7/038
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Kayaku
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.
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