Pitch reduction technology using alternating spacer depositions during the formation of a semiconductor device and systems including same
WO2008008338
Art A2
17. Januar 2008
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008008338
- Aktenzeichen
- EP07810308
- Anmeldetag
- 9. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2008
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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