Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Korrektür von Abbildungsfehlern

WO2008009356 Art A1 24. Januar 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008009356
Aktenzeichen: EP07785909
Anmeldetag: 6. Juli 2007
Veröffentlichung: 24. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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