Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, method for producing the same, and chemical mechanical polishing method
WO2008010499
Art A1
24. Januar 2008
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008010499
- Aktenzeichen
- EP07790886
- Anmeldetag
- 11. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 24. Januar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/14B24B37/00B24B37/04H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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