Shower plate, method for producing the same, plasma processing apparatus using the shower plate, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

WO2008010520 Art A1 24. Januar 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Tohoku Unversity 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008010520
Aktenzeichen: EP07790945
Anmeldetag: 18. Juli 2007
Veröffentlichung: 24. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/455H01L21/205H01L21/304H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National University Corporation Tohoku Unversity
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von