Photosensitive Resin Composition

WO2008010521 Art A1 24. Januar 2008

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha, MicroChem Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008010521
Aktenzeichen: EP07790946
Anmeldetag: 18. Juli 2007
Veröffentlichung: 24. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/029C08G59/32G03F7/004G03F7/032G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
MicroChem Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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