Plasma processing device, plasma processing method, and plasma surface processing method

WO2008010537 Art A1 24. Januar 2008

Anmelder: National University Corporation Nagoya University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008010537
Aktenzeichen: EP07790973
Anmeldetag: 19. Juli 2007
Veröffentlichung: 24. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/511

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National University Corporation Nagoya University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National University Corporation Nagoya University

Japanische staatliche Universität mit umfangreicher Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin, unter anderem bekannt für Arbeiten zu LED-Technologie. Trägerin zahlreicher Patente aus Universitätsforschung in Japan.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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