Small volume symmetric flow single wafer ald apparatus

WO2008011579 Art A2 24. Januar 2008

Anmelder: Aixtron, Inc. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008011579
Aktenzeichen: EP07840452
Anmeldetag: 20. Juli 2007
Veröffentlichung: 24. Januar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B01J19/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Aixtron, Inc.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von