Apparatus and method for processing a wafer
WO2008011903
Art A1
31. Januar 2008
Anmelder: Avago Technologies Wireless IP (Singapore) Pte. Ltd., Infineon Technologies AG 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008011903
- Aktenzeichen
- EP06762879
- Anmeldetag
- 28. Juli 2006
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/147H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Avago Technologies Wireless IP (Singapore) Pte. Ltd.
Infineon Technologies AG - Land
- 🇸🇬 Singapur
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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