Heat treatment method and heat treatment apparatus

WO2008015915 Art A1 7. Februar 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008015915
Aktenzeichen: EP07790955
Anmeldetag: 18. Juli 2007
Veröffentlichung: 7. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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