Method for film formation, apparatus for film formation, computer program, and storage medium

WO2008016004 Art A1 7. Februar 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008016004
Aktenzeichen: EP07791576
Anmeldetag: 30. Juli 2007
Veröffentlichung: 7. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768C23C14/06H01L21/285H01L21/3205H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von