Solid state imaging device and its fabrication method, electronic information apparatus, ionization sputtering system

WO2008016017 Art A1 7. Februar 2008

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008016017
Aktenzeichen: EP07791604
Anmeldetag: 30. Juli 2007
Veröffentlichung: 7. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/14C23C14/06C23C14/14C23C14/34G02B3/00G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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