Photoresist composition and patterning method thereof

WO2008016270 Art A1 7. Februar 2008

Anmelder: Dongwoo Fine-Chem Co, Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008016270
Aktenzeichen: EP07807935
Anmeldetag: 2. August 2007
Veröffentlichung: 7. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dongwoo Fine-Chem Co, Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das optische Folien und Materialien für Displays und Touchscreens herstellt. Patente vor allem im Bereich Display- und Folientechnologie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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