Method and system for controlling the uniformity of a ballistic electron beam by rf modulation

WO2008016747 Art A2 7. Februar 2008

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TEXAS INSTRUMENTS INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008016747
Aktenzeichen: EP07784374
Anmeldetag: 8. Juni 2007
Veröffentlichung: 7. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G01L21/30B44C1/22C23F1/00H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TEXAS INSTRUMENTS INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

3.600 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von