Single-crystal silicon carbide and process for producing the same
WO2008018322
Art A1
14. Februar 2008
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008018322
- Aktenzeichen
- EP07791655
- Anmeldetag
- 31. Juli 2007
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/36C30B1/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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