Defect inspecting method and defect inspecting apparatus

WO2008018463 Art A1 14. Februar 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008018463
Aktenzeichen: EP07792120
Anmeldetag: 7. August 2007
Veröffentlichung: 14. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N21/956G01N23/225G01R31/302H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von