Microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method

WO2008019936 Art A2 21. Februar 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008019936
Aktenzeichen: EP07819916
Anmeldetag: 27. Juli 2007
Veröffentlichung: 21. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/01G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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