Semiconductor device, semiconductor device manufacturing method and display device
WO2008020566
Art A1
21. Februar 2008
Anmelder: Hitachi, Ltd., Rohm Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008020566
- Aktenzeichen
- EP07792339
- Anmeldetag
- 10. August 2007
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/12G02F1/1368G09F9/30H01L21/02H01L29/786H01L51/50H05B33/02H05B33/04H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi, Ltd.
Rohm Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
16.329 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
837 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.