Euv Optics

WO2008020965 Art A2 21. Februar 2008

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008020965
Aktenzeichen: EP07797001
Anmeldetag: 24. Juli 2007
Veröffentlichung: 21. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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