Reduction of damage to thermal interface material due to asymmetrical load
WO2008021072
Art A1
21. Februar 2008
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., Advance Micro Devices, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008021072
- Aktenzeichen
- EP07836575
- Anmeldetag
- 7. August 2007
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
Advance Micro Devices, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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