Method of forming thin film by microplasma processing and apparatus for the same

WO2008023523 Art A1 28. Februar 2008

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008023523
Aktenzeichen: EP07791144
Anmeldetag: 23. Juli 2007
Veröffentlichung: 28. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24C23C14/22H01L21/285H05H1/24H05H1/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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