Composition for removal of resist comprising poly(cyanoalkyl)ethyleneamine and method for removal of resist using the composition

WO2008023614 Art A1 28. Februar 2008

Anmelder: Tosoh Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008023614
Aktenzeichen: EP07792508
Anmeldetag: 14. August 2007
Veröffentlichung: 28. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/42C11D7/32H01L21/027H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tosoh Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tosoh Corporation

Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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