Semiconductor device manufacturing method

WO2008023617 Art A1 28. Februar 2008

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008023617
Aktenzeichen: EP07792532
Anmeldetag: 8. August 2007
Veröffentlichung: 28. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/302H01L33/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Chemical Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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