Photosensitive resin composition, photosensitive film, and method for formation of pattern

WO2008023712 Art A1 28. Februar 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008023712
Aktenzeichen: EP07792812
Anmeldetag: 21. August 2007
Veröffentlichung: 28. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/033G02B5/20G03F7/004G03F7/027G03F7/40H01J9/02H01J9/227H01J11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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