Method for oxide film formation and apparatus for the method

WO2008023748 Art A1 28. Februar 2008

Anmelder: Meidensha Corporation, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008023748
Aktenzeichen: EP07792897
Anmeldetag: 22. August 2007
Veröffentlichung: 28. Februar 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C23C16/42H01L21/31H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Meidensha Corporation
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Meidensha

Meidensha ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Maschinen, unter anderem für Energieversorgung, Bahntechnik und Industrieanwendungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf elektrische Energietechnik sowie Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiter und elektrische Bauelemente. Anmeldungen laufen durchgehend von 2004 bis 2025.

646 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von