Multilayered semiconductor wafer and process for manufacturing the same
WO2008025475
Art A2
6. März 2008
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008025475
- Aktenzeichen
- EP07801820
- Anmeldetag
- 22. August 2007
- Veröffentlichung
- 6. März 2008
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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