Surface treatment method and apparatus

WO2008026366 Art A1 6. März 2008

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008026366
Aktenzeichen: EP07767404
Anmeldetag: 22. Juni 2007
Veröffentlichung: 6. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306B08B7/00H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hamamatsu Photonics K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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