Source material collection unit for a laser produced plasma euv light source

WO2008027158 Art A2 6. März 2008

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008027158
Aktenzeichen: EP07811088
Anmeldetag: 6. August 2007
Veröffentlichung: 6. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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