Processes and integrated systems for engineering a substrate surface for metal deposition

WO2008027216 Art A2 6. März 2008

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008027216
Aktenzeichen: EP07836986
Anmeldetag: 17. August 2007
Veröffentlichung: 6. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B05D3/00B05D1/18B29C71/04C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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