Substrate transfer device, substrate processing device, and method of transferring substrate

WO2008029608 Art A1 13. März 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008029608
Aktenzeichen: EP07792701
Anmeldetag: 20. August 2007
Veröffentlichung: 13. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68H01L21/205H01L21/3065H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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