Apparatus and method of depositing films using bias and charging behavior of nanoparticles formed during chemical vapor deposition

WO2008030047 Art A1 13. März 2008

Anmelder: Seoul National University Industry Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008030047
Aktenzeichen: EP07808099
Anmeldetag: 6. September 2007
Veröffentlichung: 13. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Seoul National University Industry Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University Industry Foundation

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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