Method for fabricating high-speed thin-film transistors
WO2008030802
Art A2
13. März 2008
Anmelder: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008030802
- Aktenzeichen
- EP07841819
- Anmeldetag
- 4. September 2007
- Veröffentlichung
- 13. März 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/77H01L29/786H01L29/49
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Wisconsin Alumni Research Foundation
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