Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes
WO2008031031
Art A2
13. März 2008
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008031031
- Aktenzeichen
- EP07842052
- Anmeldetag
- 7. September 2007
- Veröffentlichung
- 13. März 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B65H1/00C23F1/00H01L21/306C23C16/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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