Pattern dimension measuring device and pattern area measuring method
WO2008032387
Art A1
20. März 2008
Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008032387
- Aktenzeichen
- EP06797999
- Anmeldetag
- 14. September 2006
- Veröffentlichung
- 20. März 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B15/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Advantest Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Advantest
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.
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Fachgebiete
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