Resist material for lithography and method for formation of resist pattern
WO2008032716
Art A1
20. März 2008
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008032716
- Aktenzeichen
- EP07807089
- Anmeldetag
- 11. September 2007
- Veröffentlichung
- 20. März 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
7.331 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.