Immersion exposure apparatus and immersion exposure method, and device manufacturing method

WO2008032863 Art A1 20. März 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008032863
Aktenzeichen: EP07807592
Anmeldetag: 12. September 2007
Veröffentlichung: 20. März 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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