Dielectric thin film and thin film transistor using the same
WO2008032904
Art A1
20. März 2008
Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008032904
- Aktenzeichen
- EP06824064
- Anmeldetag
- 8. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 20. März 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/468
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Korea Institute of Science and Technology
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Korea Institute of Science and Technology
Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.
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